高周波（RF)プラズマ装置

• 高周波放電は,比較的低い気圧でも効率良くプラズマを生成できます.したがって，半導体プロセスなど材料処理の分野で多用されています，しかし，より微細な加工や選択的な処理をするには，プラズマを精密に制御する必要があります．この装置では,低損傷処理のためのイオンエネルギー制御の実験を行っています.

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